毒腐/易爆廢氣處理系統
實(shí)驗室設備特氣廢氣處理:可燃性、毒性氣體無(wú)害化的處理設備;分為燃燒式、加熱分解式、濕式、觸媒式等離子、分解式、吸著(zhù)式等。
一.主要特點(diǎn)
1. 獨立燃燒方式,完全燃燒的火焰渦流:可燃性毒性氣體從低濃度至100%濃度均可用高溫處理;
2. SiH4與NF3、NO2同時(shí)燃燒:SiH4與NF3、NO2可以同時(shí)于燃燒室中一起 燃燒;
3. 基本功能的安全設計:異常情況發(fā)生時(shí),診斷機能會(huì )自動(dòng)安全處理;
4. 使用刮刀方式,粉塵處理容易:燃燒室內部的附著(zhù)粉塵,可使用獨立的刮刀容易且確實(shí)地清除;
5. H2、LPG、天然瓦斯(LPG)各種型式:燃料氣體可使用H2、LPG、天然瓦斯(LPG)3 種型式;
6. 保養簡(jiǎn)單:保養可在極短的時(shí)間內完成,費用也低廉;
7. 高信賴(lài)性:構造簡(jiǎn)單且零件數少,值得高度信賴(lài)。
二.處理氣體種類(lèi)
可處理氣體種類(lèi)包括半導體、液晶以及太陽(yáng)能等行業(yè)中蝕刻制程與化學(xué)氣相沉積制程中使用的特氣,主要包括SiH4、SiH2Cl2、PH3、B2H6、TEOS、H2、CO、NF3、SF6、C2F6、WF6、NH3、N2O等。